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CO?氣相還原CO? gas phase

PLR-HGPR高溫高壓光催化反應(yīng)系統(tǒng)

PLR-HGPR High temperature and high pressure photocatalytic reaction system

產(chǎn)品中心:CO?氣相還原品牌:泊菲萊瀏覽量:901
PLR-HGPR高溫高壓光催化反應(yīng)系統(tǒng)氣體總流量:1~60 mL/min;具有安全泄壓閥:7 MPa(可調(diào)節(jié)),;反應(yīng)體系溫度、壓力儀表顯示;整體安全一體式防護(hù)箱設(shè)計(jì),,保證了實(shí)驗(yàn)的安全性,。
  • 產(chǎn)品介紹
  • 應(yīng)用領(lǐng)域
  • 文獻(xiàn)
  • 技術(shù)維護(hù)

關(guān)鍵特征

● 實(shí)現(xiàn)較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應(yīng),;

● 可用于氣-固相光催化,、液固相光催化反應(yīng)的微分式和積分式光化學(xué)反應(yīng),;

● 氣體流速可三路獨(dú)立控制,使用超厚石英光窗,可用于全光譜范圍內(nèi)的光化學(xué)反應(yīng),;

● 具有二級(jí)穩(wěn)流閥及二級(jí)穩(wěn)壓閥控制,三路進(jìn)氣可分別控制,。

 

應(yīng)用領(lǐng)域

▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

▲ 光降解液體污染物(如染料,、苯及苯系物等)        ▲ 光催化CO2還原

▲ 其他高溫高壓(光)化學(xué)反應(yīng)        

● 光催化分解水制氫/氧                   ● 光催化全分解水                                

● 光降解氣體污染物(如VOCs 、甲醛,、氮氧化物,、硫氧化物等)                                             

○ 光催化量子效率測(cè)量                    ○光合成                 ○ PEC光電化學(xué)

 

技術(shù)參數(shù)

● 反應(yīng)溫度 :室溫+10~300 ℃ (可達(dá)380℃);

● 反應(yīng)壓力:1~10 MPa;

● 反應(yīng)容積:50 mL(可定制25、100 mL);

● 氣路數(shù)量:3路;

● 氣體總流量:1~60 mL/min;

● 具有安全泄壓閥:7 MPa(可調(diào)節(jié)),;反應(yīng)體系溫度,、壓力儀表顯示;

● 獨(dú)立高壓氣體混勻室 :1 L,保證氣體在實(shí)驗(yàn)中的連續(xù)長時(shí)間供應(yīng),;具有二級(jí)穩(wěn)流閥及二級(jí)穩(wěn)壓閥控制,,三路進(jìn)氣可分別控制;

● 末端電子皂膜流量計(jì),用于氣體流量監(jiān)測(cè)(10~60 mL/min寬范圍調(diào)節(jié));

● 整體安全一體式防護(hù)箱設(shè)計(jì),,保證了實(shí)驗(yàn)的安全性;

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